CP200台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器,其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。
CP200台阶仪采用了高精度的传感器LVDT,具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率,同时,基于超滑光学平晶,其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。
CP200台阶仪具备极强的应用场景适应性,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。
1) 台阶高度:能够测量纳米到1050μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。
2) 粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。
3) 具备薄膜应力测量功能。
1) 单区域测量模式:完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度,即可开始测量。
2) 多区域测量模式:完成Focus后,根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,可根据横向和纵向距离来阵列形成不低于30个扫描路径区域,一键即可完成所有区域扫描路径的自动测量,扫描分析次数15次。
3) 3D测量模式:完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置,并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置,一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。
4) SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。
采用了磁吸式测针,当需要执行换针操作时,可现场快速更换扫描测针,并根据软件中的标定模块进行快速自动标定,确保换针后的精度和重复性,减少维护烦恼。
在CP200型号中配备了正视和斜视的500W像素的彩色相机,在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径,在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。
型号 |
CP200 |
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样品观察 |
正视导航 |
500万像素彩色摄像机 正视视野:10×13.4mm |
斜视导航 |
500万像素彩色摄像机 斜视视野:2×2.68mm |
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探针传感器 |
高精度传感器LVDT |
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测量力 |
1-50mg,连续可调,不破坏样品 |
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探针选型 |
探针曲率半径2μm,夹角60° |
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平台移动范围X/Y |
电动X/Y(200mm×200mm)(可手动校平) |
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样品R-θ载物台 |
电动,360°连续旋转,8英寸大小 |
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负载 |
14kg |
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单次扫描长度 |
55mm |
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最大扫描长度 |
200mm |
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最大样品厚度 |
50mm |
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Z轴行程 |
50mm |
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垂直分辨率 |
0.1nm |
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台阶高度重复性*1 |
0.38nm |
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传感器量程 |
1050μm |
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扫描速度 |
2μm/s-10mm/s |
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最大扫描采样点数 |
120000 |
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仪器电源 |
100-240 VAC,50/60 Hz,200W |
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使用环境 |
相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH 温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃) 地面振动:6.35μm/s(1-100Hz) |
注:*1 重复性数据均为配置了隔震台后在符合VC-C的实验室环境下测得,若不满足该条件,则指标下修一倍;
半导体应用
◆ 沉积薄膜的台阶高度
◆ 抗蚀剂(软膜材料)的台阶高度
◆ 蚀刻速率测定
◆ 化学机械抛光(腐蚀、凹陷、弯曲)
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大型基板应用
◆ 印刷电路板(突起、台阶高度)
◆ 窗口涂层
◆ 晶片掩模
◆ 晶片卡盘涂料
◆ 抛光板
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玻璃基板及显示器应用
◆ AMOLED
◆ 液晶屏研发的台阶步级高度测量
◆ 触控面板薄膜厚度测量
◆ 太阳能涂层薄膜测量
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柔性电子器件薄膜应用
◆ 有机光电探测器
◆ 印于薄膜和玻璃上的有机薄膜
◆ 触摸屏铜迹线
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